石英晶体(Quartz Crystal)
石英晶体是用水热法在高压釜中生长的，具有左旋和右旋两种形态。石英晶体的应力双折射低且折射率均匀性高，透光范围为200-2500nm。由于其压电特性、低热膨胀系数、优良的力学和光学特性，石英晶体被用于电子、精密光学和激光技术、光通信、X-射线光学和压力传感器等方面。
关键词:
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石英晶体(Quartz Crystal)
基础参数
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石英晶体 |
加工指标： |
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石英晶体是用水热法在高压釜中生长的，具有左旋和右旋两种形态。石英晶体的应力双折射低且折射率均匀性高，透光范围为200-2500nm。由于其压电特性、低热膨胀系数、优良的力学和光学特性，石英晶体被用于电子、精密光学和激光技术、光通信、X-射线光学和压力传感器等方面。 |
尺寸公差 ±0.1mm |
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定向精度 ±0.5 |
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表面质量 20/10 |
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通光孔径/ >90% |
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面形 <λ/8@633nm |
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透过波前畸变 <λ/10@633nm |
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平行度 <1”Arcsec |
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镀膜 按照客户要求 |
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